Китай нашел способ массово «штамповать» наночипы без литографических машин

Китайские специалисты нашли способ массового производства наночипов, который не требует использования литографических машин. Об этом сообщает издание iXBT со ссылкой на китайские источники.

Новый метод позволяет «штамповать» чипы, минуя сложный и дорогостоящий процесс фотолитографии, который десятилетиями доминирует в полупроводниковой промышленности. Традиционно литографические машины, особенно Extreme Ultraviolet (EUV), являются ключевым оборудованием для производства современных микросхем, и их главным поставщиком выступает нидерландская компания ASML.

Разработка китайских ученых, по данным источника, может изменить баланс сил на глобальном рынке чипов. Если технология окажется пригодной для массового выпуска, это позволит Китаю снизить зависимость от импортного оборудования и потенциально нарастить собственное производство полупроводников.

Пока не раскрываются технические детали нового метода и его возможности по сравнению с литографией. В частности, неясно, для каких техпроцессов он применим и способен ли конкурировать с EUV-машинами в производстве самых передовых чипов.

Тем не менее, сама новость уже вызвала интерес в индустрии: если технология подтвердится, это может стать серьёзным вызовом для монопольного положения ASML и привести к перераспределению рынка.