Почти 2 млрд рублей выделено на материалы для электронно-лучевой и взрывной литографии в РФ
Российские власти выделили почти 2 млрд рублей на разработку и организацию выпуска материалов для электронно-лучевой и взрывной литографии. Средства пойдут на создание технологий, необходимых для производства современных микрочипов.
Электронно-лучевая литография позволяет создавать структуры с нанометровой точностью, а взрывная литография используется для формирования сложных металлических и диэлектрических слоёв. Оба метода критически важны для выпуска высокопроизводительных процессоров и микросхем памяти.
Финансирование направлено на полный цикл: от научных исследований до запуска серийного производства материалов. Ожидается, что это снизит зависимость от импорта и укрепит технологический суверенитет в микроэлектронике.
Ранее в рамках госпрограмм уже были профинансированы проекты по созданию оборудования для литографии и обучению специалистов. Новая инициатива закрывает один из ключевых пробелов — сырьевую базу.
По данным источника, реализация проекта рассчитана на несколько лет. Конкретные предприятия-исполнители пока не названы, но предполагается участие профильных научных институтов и промышленных партнёров.
Успешное выполнение программы позволит России выйти на этап опытного производства собственных литографических материалов, что станет важным этапом в развитии национальной полупроводниковой отрасли.
