Россия выделила 2 млрд рублей на замену трех западных установок для выпуска чипов

Россия планирует заместить три западные установки для производства микрочипов отечественным оборудованием. На эти цели выделено 2 миллиарда рублей. Средства пойдут на разработку и выпуск установок для эпитаксии — ключевого процесса в создании полупроводниковых пластин.
Эпитаксия представляет собой процесс наращивания тонких кристаллических слоёв на подложку. Это один из важнейших этапов в производстве современных микросхем, определяющий их электрические свойства и производительность.
Финансирование осуществляется в рамках государственной программы по импортозамещению в микроэлектронике. Замена иностранного оборудования позволит снизить зависимость от поставок из недружественных стран и повысить технологический суверенитет.
Разработкой займутся российские инженерные центры и профильные предприятия. Ожидается, что опытные образцы оборудования появятся в ближайшие годы, после чего начнётся серийный выпуск.
По данным издания iXBT, проект уже получил одобрение в профильных ведомствах. В перспективе это должно укрепить позиции российской микроэлектроники на внутреннем рынке и снизить себестоимость производства чипов.







