Россия и Белоруссия создают оборудование для 65-нм чипов, заменяющее ASML

Россия и Белоруссия объединили усилия для создания собственного оборудования для выпуска микрочипов. Как сообщает CNews, в рамках совместного проекта разрабатывается целая линейка установок для изготовления фотошаблонов и фотолитографии — ключевых этапов производства полупроводниковых микросхем.

Фотошаблоны представляют собой высокоточные стеклянные пластины с рисунком будущей микросхемы. Через них с помощью фотолитографии изображение переносится на кремниевую пластину. Проект охватывает практически полный цикл: от формирования рисунка до контроля качества и исправления дефектов.

В перечень создаваемого оборудования входят: генератор изображений для техпроцессов 90–65 нм, установка контроля топологии фотошаблонов, система переноса меток совмещения на обратную сторону пластины, установка контроля координат топологических элементов, система лазерной ретуши для устранения дефектов, комплекс контроля привносимой дефектности и установка контроля полутоновых маскирующих покрытий.

Большинство установок планируется завершить уже в 2026 году, а последний элемент комплекса — в 2027 году. Система лазерной ретуши позволит исправлять небольшие ошибки прямо на фотошаблоне, избавляя от необходимости изготавливать его заново. Другие установки будут контролировать точность расположения элементов и выявлять мельчайшие дефекты, что критически важно для многослойных микросхем.

Основным разработчиком выступает белорусское предприятие «Планар», сохранившее инженерную школу ещё со времён СССР. Россия, в свою очередь, является заказчиком, интегратором и финансирует разработку. Проект реализуется в рамках государственной программы развития электронного машиностроения.

К 2030 году программа предусматривает замещение около 70% импортного оборудования и материалов для производства микроэлектроники. На эти цели планируется направить более 240 млрд рублей. Разработка собственного литографического оборудования позволит снизить зависимость от зарубежных поставщиков, в частности от нидерландской компании ASML, доминирующей на рынке фотолитографии.

Создание полного цикла производства фотошаблонов — важный шаг к технологической независимости в сфере микроэлектроники для России и Белоруссии. После завершения разработок страны получат возможность выпускать чипы по техпроцессам до 65 нм на собственном оборудовании.